聚氨酯抛光轮/研磨抛光盘

金刚石/碳化硅/氧化铝/氧化铈研磨片

金刚石/碳化硅//氧化铝/氧化铈研磨片，是利用国际上最新发展的超精密涂布技术，将微米或纳米级磨料微粉与新型高分子材料均匀分散后，涂覆于高强度薄膜表面，然后经过高精度的裁剪工艺加工而成。

产品特点:

1.利用专有的配方工艺确保磨料颗粒分散均匀；

2.产品质量稳定，批次之间差异小； 

3.既具有砂轮等固定磨料的高磨削力特性，又能达到研磨液等游离磨料的抛光精度；

4.具有较好的强度和柔韧性，能达到理想的曲面抛光效果；

5.适用于干法抛光，也适用于以水或者油为研磨介质的抛光；

CMPPAD系列抛光阻尼布用于对玻璃、晶片的半精抛或精抛，以获得没有缺陷的晶片表面,  CMPPAD系列抛光垫片可以对陶瓷、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件进行精密终道抛光。

独特的配方过程中产生的一个微蜂窝的硬质泡沫塑料弹性体产品，产生一个非常耐用的表面。CMPPAD的抛光垫带或不带填充物（抛光剂）在其组织结构。用于光学棱镜、压电玻璃、金属制品、钟表玻璃及水晶玻璃元件成组平面抛光。