CMPPAD抛光垫、抛光阻尼布、合成聚合物抛光垫、CMP研磨抛光片；

蓝宝石抛光垫、聚氨酯抛光垫、氧化铈抛光垫、无蜡抛光吸附垫；

2.5D/3D研磨抛光垫、聚氨酯抛光轮、金属镜面抛光垫，抛光盘；

光学保护膜贴、单双面胶贴胶垫、沟槽设计模切、上胶贴合制品；

CMPPAD系列抛光阻尼布用于对玻璃、晶片的半精抛或精抛，以获得没有缺陷的晶片表面,CMPPAD系列抛光垫片可以对陶瓷、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件进行精密终道抛光。

独特的配方过程中产生的一个微蜂窝的硬质泡沫塑料弹性体产品，产生一个非常耐用的表面。CMPPAD的抛光垫带或不带填充物（抛光剂）在其组织结构。用于光学棱镜、压电玻璃、金属制品、钟表玻璃及水晶玻璃元件成组平面抛光。

CMPPAD 系列合成纤维抛光垫用于对玻璃、晶片的粗中抛，以获得没有缺陷的晶片表面,  CMPPAD 系列抛光垫片可以对陶瓷、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件的粗中抛光。

CMPPAD系列抛光阻尼布用于对玻璃、晶片的半精抛或精抛，以获得没有缺陷的晶片表面,  CMPPAD系列抛光垫片可以对陶瓷、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件进行精密终道抛光。

1. 产品特点                                                            

1) 优质平整度并提高生产力

2) 无须溶剂洗涤，可缩短工艺时间

3) 吸水度比其他产品高1倍以上

4) 价格竞争力高，可降低成本，且环保 

2. 适用范围

1) 专门用于安装无蜡硅晶片、LCD基片及玻璃面板

2) ITO导电玻璃、玻璃基片、光掩模及LCD面罩抛光

蓝宝石抛光Template / 无蜡垫

CMPPAD无蜡抛光垫，适用于单面抛光工艺中各种尺寸的晶片生产； 

多层树脂材料组成的复合结构； 

内层抛光微孔膜材料，加湿后产生的附着力把晶片吸贴在其上面； 

下面抗吸收、耐磨压的纤维层。一致的恒定弹性，保证晶片的平整； 

背面压敏胶，很好地适于抛光工艺生产中产生的各种应力； 

生产环境无沾圬，抛光垫洁净无污染

独特的配方过程中产生的一个微蜂窝的硬质泡沫塑料弹性体产品，产生一个非常耐用的表面。CMPPAD的抛光垫带或不带填充物（抛光剂）在其组织结构。用于光学棱镜、压电玻璃、金属制品、钟表玻璃及水晶玻璃元件成组平面抛光。

CMPPAD®系列绒毛抛光垫\抛光羊毛球用于对玻璃、蓝宝石、金属、陶瓷等材料的曲面或弧面抛光。多款进口超细锦纶、涤纶、羊毛纱线，纱线密度和高度可控范围广，不易掉毛，耐磨优良，更有利包裹多曲面3D抛光，可以与不同缓冲垫或魔术贴复合制作，可让不同材质的2.5D/3D的曲面或弧面圆角大的产品研磨抛光变得容易，

CMPPAD系列曲面复合抛光垫用于对玻璃、蓝宝石、金属、 陶瓷等材料的曲面或弧面抛光，硬度低于其他抛光皮，但本身具有缓冲作用，我们可以在抛光皮上设计不同规格沟槽及复合不同缓冲材质来制作，可使不同材质的2.5D/3D的曲面或弧面圆角大的产品研磨抛光变得容易。

配向布：適用於TFT-LCD 段中的配向(Rubbing)製程，材質採用100% Cotton(綿)，可降低靜電量比Rayon系列的產品配向效果更佳。

配向布双面胶：適用於TFT-LCD廠CELL段，基材Film採用聚酯(PET)，使具有較柔軟容易延展的膠膜特性。

CMPPAD抛光垫、抛光阻尼布、合成聚合物抛光垫、CMP研磨抛光片；

蓝宝石抛光垫、聚氨酯抛光垫、氧化铈抛光垫、无蜡抛光吸附垫；

2.5D/3D研磨抛光垫、聚氨酯抛光轮、金属镜面抛光垫，抛光盘；

光学保护膜贴、单双面胶贴胶垫、沟槽设计模切、上胶贴合制品；

金刚石/碳化硅/氧化铝/氧化铈研磨片

金刚石/碳化硅//氧化铝/氧化铈研磨片，是利用国际上最新发展的超精密涂布技术，将微米或纳米级磨料微粉与新型高分子材料均匀分散后，涂覆于高强度薄膜表面，然后经过高精度的裁剪工艺加工而成。

产品特点:

1.利用专有的配方工艺确保磨料颗粒分散均匀；

2.产品质量稳定，批次之间差异小； 

3.既具有砂轮等固定磨料的高磨削力特性，又能达到研磨液等游离磨料的抛光精度；

4.具有较好的强度和柔韧性，能达到理想的曲面抛光效果；

5.适用于干法抛光，也适用于以水或者油为研磨介质的抛光；

聚氨酯发泡工艺制成。用于直边机、斜边机异型机、双边磨机的抛光工序，抛光速度快，光洁度高，寿命长

研磨抛光片模切热压成型